中国台湾网10月12日讯 据台湾东森新闻云报道，苹果首席设计师Jony Ive在纽约TechFest大会中透露iPhone X的开发秘密。在这次的访谈中，苹果首席设计师Jony Ive几乎什么都聊，他表示设计iPhone的初衷是出于对现况的不满，他说:“当我们在设计iPhone时，我很大一部分动机是对于我们当时使用手机的厌恶。”Face ID的开发也同样如此，所以早在iPhone 5s推出指纹辨识的时候，就开始着手开发Face ID。
谈到设计，Jony Ive很感谢前执行长Steve Jobs愿意放手让他做，让他不用担心销售数据上的问题，事实上这是让他和他的团队能不断超越设计的原因。他谈到一个态度:“你知道星期二没有什么想法，这只是星期二。到了星期三有一个想法，即使一开始是团队当中的某一个人的一个非常暂时而且脆弱的想法...都对于我们的工作来说都非常的重要。”
Jony Ive透露，iPhone许多技术已经花费5年来研发，像是Face ID人脸辨识技术，以及用脸部表情来呈现动态贴图(Animoji)的这项功能，里头提到所使用的TrueDepth相机，一开始开发的原型机是非常巨大的，你几乎无法想像它可以被应用在手机上，但团队认为这对于手机发展是有帮助，即便绝大多数的开发时间都是失败告终，团队仍相信将脸部辨识放到手机当中的这件事情是正确的。
Jony Ive表示，在开发的过程当中，一定会历经许多错误跟失败，事实上，可能有超过99%的时间，你都要面临失败与错误，但他深信这些错误绝对不是仅仅从一个懒惰或者自信的过程中发生，这也代表成功将是一件不可避免的事情。
除了Apple iPhone X的Face ID，Jony Ive也分享了自己对工作的态度与许多人生哲学。（中国台湾网 孙伊静）
